Samsung: развитие 10 нм техпроцесса идет по плану


Компания Samsung похвасталась, что она очень довольна развитием технологического процесса 10 нм и не ожидает каких-либо задержек во внедрении очередной версии этой литографии. Производитель также заверил, что работает над введением еще более низких процессов,  подробности о которых партнеры компании узнают уже в мае.

Samsung запустил массовое производство чипов на 10 нм литографии в октябре прошлого года и до сих пор упрощает весь процесс. За это время было поставлено заказчикам более 70 тысяч кремниевых пластин, выполненных по технологии 10-нм FinFET LPE (Low Power Early). Предприятие гарантирует, что в ближайшие несколько месяцев производство будет увеличено, чтобы соответствовать требованиям.

Компания также заявила, что в конце этого и в начале следующего года будет в состоянии предложить полную производственную мощность для литографии 10 нм FinFET LPP и 10-нм FinFET LPU. Подтверждено, что к расписанию добавлены два последующие процессы – 8 нм и 6 нм. Оба они обеспечивают высокую масштабируемость, производительность и должны быть дешевле, чем существующие решения. Из данных видно, что 8 нм будет основываться в основном на улучшенной литографий 10 нм, а 6 нм будет продолжением 7 нм.






Точные технические детали, касающиеся новых процессов, будут переданы партнерам уже 27 мая этого года во время US Samsung Foundry Forum. Мы тогда же узнаем, когда новые литографии могут быть введены на рынок.

Понравилась статья? Поделиться с друзьями: